半導體超純水設備應當如何進行清洗呢？在半導體行業中，超純水設備采用先進的反滲透處理技術，以及后級超純化技術，能夠確保出水水質滿足超純水要求。設備整體采用先進的不銹鋼材質，抗腐蝕能力強，同時也不會出現生銹問題。

半導體清洗超純水設備工作原理

Edi模塊中被分為了陰陽離子樹脂，樹脂中經過離子交換法將經過的濃水轉化為純水或是超純水（取決于樹脂的過濾級別）。EDI純水電阻率可以高達18MQ.cm(25℃),但是根據去離子水用途和系統配置設置，EDI純水適用于制備電阻率要求在1-18. 2兆歐.cm(25℃)。

半導體清洗用超純水設備制備工藝

1、預處理系統反滲透系統一中間水箱粗混合床精混合床純水箱純水泵紫外線殺菌器拋光混床精密過濾器用水點。

2、預處理反滲透中間水箱水泵ED1裝置純化水箱一辣水系一紫外線殺菌器一隨光溉床0. 2或0. 5μ=精密過濾器用水點。

3、預處理一級反滲透加藥機（PH調節）中間水箱第二級反滲透（正電荷反滲膜）純水箱純水泵EDI裝置紫外線殺菌器0. 2或0. 5μm精密過濾器用水點。

4、預處理反滲透中間水箱水泵EDI裝置一純水箱純水泵紫外線殺菌器0. 2或0. 5μ=精密過濾器用水點。

5、預處理系統一反涉透系統一中間水箱純水泵一相混合床精混合床紫外線殺菌器一精密過濾器一用水點。